Axcelis Technologies, Inc. tham gia vào việc sản xuất thiết bị vốn cho ngành công nghiệp sản xuất chip bán dẫn. Công ty có trụ sở chính tại Beverly, Massachusetts và hiện đang sử dụng 1.524 nhân viên toàn thời gian. Công ty đã niêm yết lần đầu ra công chúng (IPO) vào ngày 11-07-2000. Doanh nghiệp tập trung phát triển các ứng dụng quy trình thiết yếu thông qua thiết kế, sản xuất và hỗ trợ vòng đời đầy đủ của các hệ thống cấy ion – một trong những bước then chốt và thiết yếu trong quá trình sản xuất IC. Các sản phẩm cấy ion của công ty bao gồm cấy ion dòng cao, cấy ion năng lượng cao và cấy ion dòng trung bình. Các hệ thống dòng cao Purion H, Purion Dragon, Purion H200 và GSD/E2 Ovation beam spot của công ty đáp ứng mọi yêu cầu truyền thống về dòng cao cũng như các yêu cầu liên quan đến các thiết bị mới nổi và tương lai. Các hệ thống cấy ion năng lượng cao Purion XE, EXE và các hệ thống Purion khác kết hợp công nghệ beam spot tần số radio (RF Linac) năng lượng cao đã được chứng minh trong sản xuất với hệ thống xử lý oằn wafer trên nền tảng Purion. Các sản phẩm cấy ion dòng trung bình bao gồm các hệ thống Purion M Si và SiC dòng trung bình. Công ty cũng cung cấp dịch vụ và hỗ trợ sau bán hàng cho khách hàng.