Key Takeaways
- 一項名為《MATCH 法案》的新跨黨派法案將顯著收緊針對中國的半導體製造設備出口管制，特別是針對深紫外（DUV）光刻機。
- 中國對此類設備的進口額從 2016 年的 107 億美元飆升至 2025 年的 511 億美元以上；2025 年第四季，中國佔荷蘭艾司摩爾（ASML）系統銷售額的 36%。
- 該法案旨在使管制措施與荷蘭及日本等盟友保持一致，並威脅若盟友不配合將採取單邊行動，這標誌著美中技術戰的重大升級。
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美國兩黨提案旨在切斷中國晶片領域聯繫，以維持 5 年以上技術領先優勢
一項新的兩黨法案尋求堵塞美國出口管制中的關鍵漏洞，旨在削弱中國主導全球半導體產業的野心，並維持分析師估計的 5 年以上技術領先優勢。
美國兩黨議員小組提出了一項法案，擬嚴厲限制中國獲取先進半導體製造設備的管道，使這兩個全球大國之間的技術競爭進一步升級。這項名為《硬件技術管制多邊協調法案》（Multilateral Alignment of Technology Controls on Hardware Act，簡稱 MATCH Act）的立法，旨在堵塞現有出口管制中的漏洞，這些漏洞使中國在面臨美國壓力的情況下仍能提升其晶片製造能力。
眾議員邁克爾·鮑姆加特納（Michael Baumgartner）在聲明中表示：「中國已經非常明確地表示，它打算主導支撐我們經濟和國防的技術。美國承擔不起留下『後門』的代價，這會讓中國共產黨獲得在半導體製造領域實現飛躍所需的工具。」
此舉正值中國半導體製造機械進口量激增之際。根據 Silverado Policy Accelerator 的分析，中國此類設備的進口額已從 2016 年的 107 億美元增長到去年的約 511 億美元。這一激增是由人工智能晶片的旺盛需求推動的，中國已成為荷蘭艾司摩爾（ASML）等關鍵設備供應商的最大單一市場，佔其 2025 年第四季淨系統銷售額的 36%。
此事的利害關係在於對人工智能未來和其他關鍵技術的控制。《MATCH 法案》旨在阻止中國實現高端晶片的自給自足，這是習近平主席提出的目標。然而，分析人士警告說，如此重大的升級可能會引發北京方面的強烈報復，並進一步擾亂深度集成的全球供應鏈。
深紫外（DUV）光刻漏洞
擬議立法的核心針對的是使用深紫外（DUV）光刻技術的特定類別的晶片製造工具。雖然美國已經禁止向中國出口最先進的極紫外（EUV）光刻機，但仍允許銷售稍舊的 DUV 系統。中國企業已購入數百台此類機器，使其能夠大批量生產先進晶片，即使這些晶片並非處於絕對的最前沿。
專家認為，這讓中國能夠以數量彌補質量。Silverado Policy Accelerator 首席執行官莎拉·斯圖爾特（Sarah Stewart）表示：「如果我們賦予他們擴大僅次於最尖端技術規模的能力，那麼我們造成的損害與直接給他們最先進的製造技術是一樣的。」SemiAnalysis 的分析師估計，中國本土設備的生產落後於艾司摩爾、應用材料（Applied Materials）和泛林集團（Lam Research）等西方領先公司 5 年以上。《MATCH 法案》將對 DUV 浸沒式光刻機以及其他工具實施全國範圍的禁令。
盟友協調與單邊威脅
美國政策面臨的一個關鍵挑戰是與主要盟友（即荷蘭和日本）缺乏完全一致，這兩個國家是主要設備製造商艾司摩爾和東京電子（Tokyo Electron）的所在地。這些國家採用了較寬鬆的規定，允許其公司繼續在被美國法律列入黑名單的中國工廠內銷售和維護設備。這導致美國公司將市場份額拱手讓給了外國競爭對手。
《MATCH 法案》指示美國政府進行「外交接觸」，以說服盟友採取對等的限制措施。然而，如果談判失敗，該法案授權商務部援引「外國直接產品規則」（Foreign Direct Product Rule）。這一強有力的工具將允許美國在外國公司的產品包含美國技術的情況下限制其出口，這一單邊舉動雖然面臨激怒盟友的風險，但官員們認為這是必要的後盾。
新美國安全中心（Center for a New American Security）客座研究員米歇爾·聶（Michelle Nie）表示：「像艾司摩爾和東京電子這樣的盟友公司仍在為中國晶圓廠內部的半導體製造設備提供服務。服務是中國規避全球出口管制體系的主要方式，而我們並沒有對其進行充分限制。」
擬議的法律還專門針對包括中芯國際（SMIC）和華為在內的幾家關鍵中國晶片製造商，實施了更廣泛的限制。分析師預計，如果法案獲得通過，北京方面將做出強烈反應。SemiAnalysis 的傑夫·科赫（Jeff Koch）表示：「這將對中國產生非常嚴重的戰略影響，因為他們將半導體製造設備視為關鍵的戰略需求。我預計他們會做出反應。」
本文僅供參考，不構成投資建議。